朝著低碳社會的實現產品化加速的SiC POWER DEVICE。
東橫化學應用獨自的超高溫處理技術，從2000年SiC POWER DEVICE的開發組裝，
長年來培育的技術和最先端技術的結集，實現了高品質，高性能熱處理性能。
本公司"Ailesic"系列熱處理裝置，SiC POWER DEVICE的性能大幅提高也穩定量產貢獻。
活性化annealing裝置 Ailesic-2000
■ 特點
・對應最高溫度到1950℃ SiC活性化annealing
・依據新開發heating技術實現超升降溫特性。
⇒客戶的小rot短時間處理的needs也對應。
・同heating技術及根據高精度溫度控制技術來安定process
性能實現=安定生產貢獻
・從開發到6英吋高容量到量產的豐富構成
・在量廠工廠有良好運用實績。
■ 應用
・活性化annealing
熱處理裝置 Ailesic-1700/1400
■ 特點
・最高溫度到1670℃* 對應SiC超高溫處理
（*選項設定，標準規格：最高溫度≦1400℃）
・In situ Cleaning其它，依據獨自技術超高純度process和高運轉兩立。
・高純度/高真空/高溫process經過急速升降溫對應。
・獨自耐蝕/根據seal技術的腐蝕性/毒性GAS的使用對應。
・從開發到6英吋高容量到量產的豐富構成
・經多年來豐富交貨實績及量產運用實績。
■ 應用
・酸化 （O2，Pyrogenic）
・oxynitriding （N2O，NO）
・annealing （N2，Ar，H2，NH3）
・POA （Post Oxidation Anneal）
R&D用熱處理裝置 Ailesic-X
■ 特點
・從Si到SiC ， GaN等等，各種半導體研究開發的各式各樣個別needs對應超高溫/高溫熱處理裝置。
・廣泛選擇可能溫度性能：400℃～1950℃
・In situ Cleaning其它，依據獨自技術實現超高純度process環境。
・獨自耐蝕/根據seal技術的腐蝕性/毒性GAS的使用對應。
・高純度/高真空/在高溫process的急速升降溫也對應。
・長年來有納入各種研究機關，大學等等的豐富實績。
■ 應用
・酸化 （O2，Pyrogenic）
・oxynitriding （N2O，NO）
・annealing （N2，Ar，H2，NH3）
・POA （Post Oxidation Anneal）
・活性化annealing
・其他
注）照片為例。依要求規格外型大小也會有所不同。